下述液体制剂常用的附加剂分别是

天然甜味剂

A:增溶剂 B:防腐剂 C:矫味剂 D:着色剂 E:潜溶剂

为消除干扰离子的影响，可采用掩蔽法。掩蔽法分为（）。

A:络合掩蔽； B:沉淀掩蔽； C:氧化-还原掩蔽； D:滴定掩蔽。

在EDTA滴定中，下列有关掩蔽剂的应用叙述，不正确的是（）。

A:当铝、锌离子共存时，可用NH₄F掩蔽Zn²⁺，而测定Al³⁺ B:测定钙、镁时，可用三乙醇胺掩蔽少量Fe³⁺、Al³⁺ C:Bi³⁺、Fe²⁺共存时，可用盐酸羟胺掩蔽Fe³⁺的干扰 D:钙、镁离子共存时，可用NaOH掩蔽Mg²⁺

用EDTA法测定铜合金（Cu、Zn、Pb）中Pb的含量时，以KCN作掩蔽剂，下列说法正确的是（）。

A:在酸性溶液中加入KCN，掩蔽去除Cu²⁺、Zn²⁺ B:在酸性溶液中加入KCN，掩蔽去除Cu²⁺ C:在碱性溶液中加入KCN，掩蔽去除Cu²⁺、Zn²⁺ D:在碱性溶液中加入KCN，掩蔽去除Cu²⁺

配位滴定中，在使用掩蔽剂消除共存离子的干扰时，下列注意事项中说法不正确的是（）。

A:掩蔽剂不与待测离子配合，或形成配合物的稳定常数远小于待测离子与EDTA配合物的稳定性 B:干扰离子与掩蔽剂所形成的配合物的稳定性应比与EDTA形成的配合物更稳定 C:在滴定待测离子所控制的酸度范围内应以离子形式存在，应具有较强的掩蔽能力 D:掩蔽剂与干扰离子所形成的配合物应是无色或浅色的，不影响终点的判断

掩蔽剂

在EDTA配位滴定中，下列有关掩蔽剂的叙述哪些是错误的（）。

A:配位掩蔽剂必须可溶且无色 B:氧化还原掩蔽剂必须改变干扰离子的价态 C:掩蔽剂的用量越多越好 D:掩蔽剂最好是无毒的

在配位滴定中，对配位掩蔽剂的要求有（）。

A:干扰离子形成的配合物应是无色或浅色的 B:干扰离子与掩蔽剂形成的配合物应比与EDTA形成的配合物稳定性小 C:掩蔽剂应不与被测离子配位，或其配合物的稳定性远小于EDTA与被测离子所形成配合物的稳定性 D:滴定要求的pH范围内，具有很强的掩蔽能力

丁二酮重量法测定钢中镍，用酒石酸掩蔽Fe3＋，Al3＋，Ti4＋等的干扰，用氨水调节溶液的PH，氨水、掩蔽体、沉淀剂加入的顺序是（）

A:氨水、掩蔽体、沉淀剂 B:掩蔽体、氨水、沉淀剂 C:掩蔽体、沉淀剂、氨水 D:无需考虑试剂加入顺序