真空烤瓷炉对其温度参数和时间参数进行精密的控制。在使用中要求操作人员按严格的程序进行操作。在烤瓷过程中有一道工艺叫上釉，上釉有两种方法：自行上釉和分别上釉，其中自行上釉要求把烧好的瓷体在高于体瓷烧熔温度下保持数分钟，高于体瓷烧熔温度的范围是（）。

题库:口腔医学技术(师) 类型:最佳选择题 时间:2017-06-22 15:26:36 免费下载:《口腔设备学》Word试卷

真空烤瓷炉对其温度参数和时间参数进行精密的控制。在使用中要求操作人员按严格的程序进行操作。在烤瓷过程中有一道工艺叫上釉，上釉有两种方法：自行上釉和分别上釉，其中自行上釉要求把烧好的瓷体在高于体瓷烧熔温度下保持数分钟，高于体瓷烧熔温度的范围是（）。
A.31～40℃
B.21～30℃
C.10℃以内
D.11～20℃
E.5℃

本题关键词:烤瓷粉,进度控制工作流程,釉面瓷砖,烤瓷合金,工程进度控制,齿科烤瓷合金,无釉瓷质墙地砖,工作参数,Ceradelta 2(齿科烤瓷合金),护理操作工作制度;