真空烤瓷炉对其温度参数和时间参数进行精密的控制。在使用中要求操作人员按严格的程序进行操作。 在烤瓷过程中有一道工艺叫上釉,上釉有2种方法:自行上釉和分别上釉,其中自行上釉要求把烧好的瓷体在高
真空烤瓷炉的温度参数和时间参数主要包括()
题库:口腔医学技术(师)
类型:最佳选择题
时间:2019-05-23 17:27:47
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真空烤瓷炉对其温度参数和时间参数进行精密的控制。在使用中要求操作人员按严格的程序进行操作。 在烤瓷过程中有一道工艺叫上釉,上釉有2种方法:自行上釉和分别上釉,其中自行上釉要求把烧好的瓷体在高
真空烤瓷炉的温度参数和时间参数主要包括()
A.预热温度,烤瓷温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间
B.预热温度,烤瓷温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间
C.现时温度,烤瓷温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间
D.现时温度,最终温度,预热时间,升温时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间
E.现时温度,最终温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间
本题关键词:烤瓷粉,进度控制工作流程,釉面瓷砖,烤瓷合金,工程进度控制,齿科烤瓷合金,无釉瓷质墙地砖,工作参数,Ceradelta 2(齿科烤瓷合金),护理操作工作制度;