光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和（），两者的主要区别是所用光刻胶的种类不同，前者是（），后者是（）。

题库:集成电路技术 类型:填空题 时间:2017-06-23 18:42:57 免费下载:《集成电路工艺原理》Word试卷

光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和（），两者的主要区别是所用光刻胶的种类不同，前者是（），后者是（）。

本题关键词:青光眼患者,刻板性,患者分类的能力,4种荧光模型,胃刻宁胶囊,I1类光气候区,I2类光气候区,Ⅴ类光气候区,Ⅳ类光气候区,I3类光气候区;