被保护的集成电路布图设计应当具有（）

题库:知识产权工程师 类型:最佳选择题 时间:2017-06-24 01:46:53 免费下载:《知识产权工程师》Word试卷

被保护的集成电路布图设计应当具有（）
A.新颖性
B.独创性
C.显著性

本题关键词:保护性伸展反应,创新性研究,明显性,独特性,被动性,免疫性保护性抗体,塑性设计,保护性抗体,独立性护理措施,集中性;