溅射法是由（）轰击靶材表面，使靶原子从靶表面飞溅出来淀积在衬底上形成薄膜。

A:电子 B:中性粒子 C:带能离子

标识X射线的波长与（）有关

A:靶材 B:管电流 C:管电压

X射线管中轰击靶的电子运动速度取决于（）

A:靶材的原子序数 B:管电压 C:管电流 D:灯丝电压

Χ射线管中轰击靶的电子运动的速度取决于（）

A:靶材的原子序数 B:管电压 C:.管电流 D:灯丝电流

标识X 射线的波长与(　) 有关:

A:靶材 B:管电流 C:管电压

高速电子与阳极靶的(　) 作用， 产生靶材的标识X 射线:

A:自由电子 B:核外壳层电子 C:核外库仑场

连续X 射线的强度与靶材的原子序数成正比（ ）

连续X射线的强度与靶材的原子序数平方成正比

X射线管中轰击靶的电子运动速度取决于(　)

A:靶材的原子序数 B:管电压 C:管电流 D:灯丝电压

X 射线管中轰击靶的电子运动的速度取决于 （ ）

A:靶材的原子序数 B:管电压 C:管电流 D:灯丝电压