分布于人体的气所在部位为（2009年考试真题）

宗气( )。

A:在胸中 B:根于肾 C:在脉内 D:在脉外 E:分布于经络

分布于人体的气所在部位为（2009年考试真题）

营气( )。

A:在胸中 B:根于肾 C:在脉内 D:在脉外 E:分布于经络

分布于人体的气所在部位为（2009年考试真题）

卫气( )。

A:在胸中 B:根于肾 C:在脉内 D:在脉外 E:分布于经络

在热高分工艺流程中，反应系统注水点在（）。

A:反应器出口 B:冷高分气空冷前 C:热高分气空冷前 D:热高分底

异构化装置高分罐循环氢气带液，下列描述正确的是（）。

A:高分罐保持低液位 B:加强压缩气缸、进口集液槽、循环气冷却器（部分装置没有）的排液 C:停车更换高分罐破沫网 D:提高反应的操作压力

下列高分子中，分子结构简单规整的是（）。

A:线性高分子 B:支链型高分子 C:体型高分子 D:功能高分子

关于高分窜低压处理错误的是（）。

A:切断高分减油 B:切断低分减油 C:压空低分 D:低分放火炬