有关班氏法尿糖测定的原理和反应物质

反应形成的最终产物是

A:硫酸铜 B:氢氧化铜 C:氢氧化亚铜 D:氧化亚铜 E:氧化铜

《药品不良反应报告和监测管理办法》规定

可导致住院或住院时间延长的不良反应是

A:药品不良反应 B:新的药品不良反应 C:药品严重不良反应 D:可控制的不良反应 E:不可控制的不良反应

（血药浓度法进行TDM的取样时间与测定指标）

患者感觉疗效不明显

A:峰浓度 B:谷浓度 C:稳态浓度 D:稳态的峰浓度和谷浓度 E:确定个体患者的药动学参数

（血药浓度法进行TDM的取样时间与测定指标）

毒副作用较强的药物

A:峰浓度 B:谷浓度 C:稳态浓度 D:稳态的峰浓度和谷浓度 E:确定个体患者的药动学参数

（血药浓度法进行TDM的取样时间与测定指标）

患者临床表现类似中毒症状

A:峰浓度 B:谷浓度 C:稳态浓度 D:稳态的峰浓度和谷浓度 E:确定个体患者的药动学参数

（血药浓度法进行TDM的取样时间与测定指标）

长期用药,定期监测血药浓度

A:峰浓度 B:谷浓度 C:稳态浓度 D:稳态的峰浓度和谷浓度 E:确定个体患者的药动学参数

在食品高温保藏过程中常用某些技术指标来表示杀死微生物所需要的时间、温度等。

在一定温度下，杀死一定数量的微生物所需要的时间称为

A:D值 B:F值 C:Z值 D:热力致死时间 E:热力致死时间曲线

在食品高温保藏过程中常用某些技术指标来表示杀死微生物所需要的时间、温度等。

在某一温度和条件下，杀灭90%微生物所需要的时间称为

A:D值 B:F值 C:Z值 D:热力致死时间 E:热力致死时间曲线

真空烤瓷炉对其温度参数和时间参数进行精密的控制。在使用中要求操作人员按严格的程序进行操作

真空烤瓷炉的温度参数和时间参数主要包括

A:预热温度，烤瓷温度，预热时间，烤瓷时间，最终温度持续时间 B:预热温度，烤瓷温度，预热时间，烤瓷时间，最终温度持续时间，真空烤瓷时间 C:现时温度，烤瓷温度，预热时间，烤瓷时间，最终温度持续时间，真空烤瓷时间 D:现时温度，最终温度，预热时间，升温时间，最终温度持续时间，真空烤瓷时间 E:现时温度，最终温度，预热时间，烤瓷时间，最终温度持续时间，真空烤瓷时间

真空烤瓷炉对其温度参数和时间参数进行精密的控制。在使用中要求操作人员按严格的程序进行操作

在烤瓷过程中有一道工艺叫上釉，上釉有两种方法：自行上釉和分别上釉，其中自行上釉要求把烧好的瓷体在高于体瓷烧熔温度下保持数分钟，高于体瓷烧熔温度的范围是

A:31～40℃ B:21～30℃ C:10℃以内 D:11～20℃ E:5℃