一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是

A:腭杆组织面加自凝树脂重衬 B:腭杆组织面缓冲 C:不做处理，让患者把义齿戴走 D:取下腭杆 E:取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是

A:取下腭杆 B:腭杆组织面缓冲 C:腭杆组织面加自凝树脂重衬 D:不做任何处理 E:取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

患者上颌局部义齿修复。义齿初戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）

A:取下腭杆 B:腭杆组织面缓冲 C:腭杆组织面加自凝树脂重衬 D:不做任何处理 E:取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）。

A:不做处理，让患者把义齿戴走 B:腭杆组织面加自凝树脂重衬 C:腭杆组织面缓冲 D:取下腭杆 E:取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是（）

A:不做处理，让患者把义齿戴走 B:腭杆组织面加自凝树脂重衬 C:腭杆组织面缓冲 D:取下腭杆 E:取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆

一患者上颌局部义齿修复，义齿戴时，发现上腭后部弯制的腭杆离开腭黏膜2mm，处理方法是

A:不做处理，让患者把义齿戴走 B:腭杆组织面加自凝树脂重衬 C:腭杆组织面缓冲 D:取下腭杆 E:取下腭杆后，戴义齿取印模，在模型上重新加腭杆