符合活动义齿下颌托盘选择要求的是

A:舌侧边缘应与口底等高 B:宽度与下颌牙槽嵴等宽 C:颊侧边缘应与唇颊沟等高 D:后缘应盖过磨牙后垫 E:以上均是

基托蜡型制作时，以下哪个区域应稍薄

A:唇侧边缘 B:颊侧边缘 C:骨隆突区 D:腭皱襞处 E:上颌腭侧后缘

基托蜡型制作时，下列哪个区域应稍薄（）

A:唇侧边缘 B:颊侧边缘 C:骨隆突区 D:腭皱襞处 E:上颌腭侧后缘

基托蜡型制作时，下列区域应稍薄的是（）。

A:唇侧边缘 B:颊侧边缘 C:骨隆突区 D:腭皱襞处 E:上颌腭侧后缘

基托蜡型制作时，下列各个区域应稍薄的是（）

A:唇侧边缘 B:颊侧边缘 C:骨隆突区 D:腭皱襞处 E:上颌腭侧后缘

符合活动义齿下颌托盘选择要求的是（）。

A:颊侧边缘应与唇颊沟等高 B:舌侧边缘应与口底等高 C:宽度与下颌牙槽嵴等宽 D:后缘应盖过磨牙后垫 E:以上均是

基托蜡型制作时，下列区域应稍薄的是（）。

A:唇侧边缘 B:颊侧边缘 C:骨隆突区 D:腭皱襞处 E:上颌腭侧后缘