上颌后堤区的形成方法,不正确的是

题库:口腔医学技术(士) 类型:最佳选择题 时间:2017-06-24 19:29:32 免费下载:《单选题》Word试卷

上颌后堤区的形成方法,不正确的是
A.上颌后堤区的宽度在中间区域可达4~5mm
B.上颌后堤区位于前后颤动线之间
C.用蜡刀沿后缘线刻入模型深3~5mm
D.一般在腭小凹与两侧翼上颌切迹连线后约2mm处为后堤区后缘
E.上颌后堤区越靠近腭中缝、两侧牙槽嵴越浅

上颌后堤区的形成方法,不正确的是

本题关键词:上颌后缩,下颌后缩,上颌窦后鼻孔息肉,上颌前突,上颌动脉,后前位,上颌窦炎,上颌齿瘘,上颌神经下颌神经,疝术后腹股沟区;

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