上颌两侧磨牙全部缺失，设计支架式可摘义齿修复，为防止义齿下沉压迫黏膜，制作时要求

题库:口腔医学技术(士) 类型:最佳选择题 时间:2017-06-24 19:28:25 免费下载:《单项选择》Word试卷

上颌两侧磨牙全部缺失，设计支架式可摘义齿修复，为防止义齿下沉压迫黏膜，制作时要求
A.腭杆中部与模型应有0.8～1mm距离
B.腭杆中部与模型应有1.2～1.5mm距离
C.腭杆中部与模型应有0.1mm距离
D.腭杆中部与模型应有0.3～0.5mm距离
E.腭杆中部与模型应完全贴合

本题关键词:定制式义齿,腭裂修复术,定制式固定义齿,上颌齿瘘,龋齿防止,架设距离,活动义齿,牙齿,腭裂分离器,唇腭裂修复器械包;