光刻工艺的主要流程有哪几步？什么是光刻工艺的分辨率？从物理角度看，限制分辨率的因素是什么？最常用的曝光光源是什么？

题库:集成电路技术 类型:简答题 时间:2017-06-23 18:42:57 免费下载:《集成电路工艺原理》Word试卷

光刻工艺的主要流程有哪几步？什么是光刻工艺的分辨率？从物理角度看，限制分辨率的因素是什么？最常用的曝光光源是什么？

本题关键词:分光光度分析,荧光分光光度法,分光光度计,时间分辨荧光法,可见光分光光度法,紫外光分光光度法,分光光度分析法,紫外分光光度,透光辨脓法,光谱光视效率;