舌下片是

A:在口腔内缓慢溶解而发挥局部或全身治疗作用的片剂 B:含在舌下，可避免药物首关效应的片剂 C:在胃液中不溶，而在肠液中溶解的片剂 D:可避免复方制剂中不同药物发生配伍变化的片剂 E:药物恒速释放或近似恒速释放的片剂

真空烤瓷炉对其温度参数和时间参数进行精密的控制。在使用中要求操作人员按严格的程序进行操作

真空烤瓷炉的温度参数和时间参数主要包括

A:预热温度，烤瓷温度，预热时间，烤瓷时间，最终温度持续时间 B:预热温度，烤瓷温度，预热时间，烤瓷时间，最终温度持续时间，真空烤瓷时间 C:现时温度，烤瓷温度，预热时间，烤瓷时间，最终温度持续时间，真空烤瓷时间 D:现时温度，最终温度，预热时间，升温时间，最终温度持续时间，真空烤瓷时间 E:现时温度，最终温度，预热时间，烤瓷时间，最终温度持续时间，真空烤瓷时间

舌下片是（）

A:在口腔内缓慢溶解而发挥局部或全身治疗作用的片剂 B:置于舌下，可避免药物的首关效应的片剂 C:在胃液中不溶，而在肠液中溶解的片剂 D:可以避免复方制剂中不同药物的配伍变化的片剂 E:药物以恒速释放或近似恒速释放的片剂

舌下神经 ( )

A:为躯体运动神经 B:经舌下神经管出颅 C:支配舌肌 D:分布于舌粘膜 E:一侧舌下神经损伤，伸舌时舌尖偏向健侧

舌下神经 ( )

A:为躯体运动神经 B:经舌下神经管出颅 C:支配舌肌 D:分布于舌粘膜 E:一侧舌下神经损伤，伸舌时舌尖偏向健侧

舌下神经 ( )

A:为躯体运动神经 B:经舌下神经管出颅 C:支配舌肌 D:分布于舌粘膜 E:一侧舌下神经损伤，伸舌时舌尖偏向健侧

舌下神经 ( )

A:为躯体运动神经 B:经舌下神经管出颅 C:支配舌肌 D:分布于舌粘膜 E:一侧舌下神经损伤，伸舌时舌尖偏向健侧