显影加工的中间处理是指

A:显影 B:漂洗 C:定影 D:水洗 E:干燥

与X线潜影形成的因素无关的是

A:被照体的原子序数 B:被照体的厚度 C:显影加工条件 D:X线的质与量 E:X线的散射

光刻加工的工艺过程为：（）

A:①氧化②沉积③曝光④显影⑤还原⑦清洗 B:①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦扩散 C:①氧化②涂胶③曝光④显影⑤去胶⑦还原

显影加工的中间处理是指

A:显影 B:漂洗 C:定影 D:水洗 E:干燥

与X线潜影形成的因素无关的是（）

A:被照体的原子序数 B:被照体的厚度 C:显影加工条件 D:X线的质与量 E:X线的散射

与X线潜影形成的因素无关的是（）

A:被照体的原子序数 B:被照体的厚度 C:显影加工条件 D:X线的质与量 E:X线的散射