X线管阳极靶面所用的物质必须具有

A:低原子序数，高熔点 B:低原子序数，低熔点 C:高原子序数，高熔点 D:高原子序数，低熔点 E:低密度、高比重

临床上使用的X线产生的方式一般是

A:使用高电位差或微波电场加速电子后打到高原子序数物质的靶上，产生韧致辐射 B:使用低电位差或微波电场加速电子后打到高原子序数物质的靶上，产生韧致辐射 C:使用高电位差或微波电场加速电子后打到低原子序数物质的靶上，产生韧致辐射 D:使用高电位差或激光光波加速电子后打到高原子序数物质的靶上，产生韧致辐射 E:使用高温加速电子后打到高原子序数物质的靶上，产生韧致辐射

X线管阳极靶面所用的物质必须具有（）

A:低原子序数，高熔点 B:低原子序数，低熔点 C:高原子序数，高熔点 D:高原子序数，低熔点 E:低密度、高比重

临床上使用的X线产生的方式一般是（）

A:使用高电位差或微波电场加速电子后打到高原子序数物质的靶上，产生韧致辐射 B:使用低电位差或微波电场加速电子后打到高原子序数物质的靶上，产生韧致辐射 C:使用高电位差或微波电场加速电子后打到低原子序数物质的靶上，产生韧致辐射 D:使用高电位差或激光光波加速电子后打到高原子序数物质的靶上，产生韧致辐射 E:使用高温加速电子后打到高原子序数物质的靶上，产生韧致辐射

临床上使用的X线产生的方式一般是（）。

A:使用高电位差或微波电场加速电子后打到高原子序数物质的靶上，产生韧致辐射 B:使用低电位差或微波电场加速电子后打到高原子序数物质的靶上，产生韧致辐射 C:使用高电位差或微波电场加速电子后打到低原子序数物质的靶上，产生韧致辐射 D:使用高电位差或激光光波加速电子后打到高原子序数物质的靶上，产生韧致辐射 E:使用高温加速电子后打到高原子序数物质的靶上，产生韧致辐射

临床上使用的X线产生的方式一般是（）。

A:使用高电位差或微波电场加速电子后打到高原子序数物质的靶上，产生韧致辐射 B:使用高电位差或微波电场加速电子后打到低原子序数物质的靶上，产生韧致辐射 C:使用低电位差或微波电场加速电子后打到高原子序数物质的靶上，产生韧致辐射 D:使用高电位差或激光光波加速电子后打到高原子序数物质的靶上，产生韧致辐射 E:使用高温加速电子后打到高原子序数物质的靶上，产生韧致辐射