患者，男，5岁，因前牙反而求治，病史不祥。乳牙列，下颌第一乳磨牙深龋，乳前牙反，反覆盖较大，反覆较浅，面型偏直。

矫治该患者乳前牙反的措施中，哪项是不恰当的

A:调改可能存在的干扰 B:破除可能存在的相关口腔不良习惯 C:治疗下颌第一乳磨牙深龋 D:可用上颌垫矫治器矫治前牙反 E:优先考虑前牵引上颌骨并同时抑制下颌骨的生长

某患儿，男，5岁，因前牙反而求治，病史不详。乳牙列，下颌第一磨牙深龋，乳前牙反，反覆盖较大，反覆较浅，面型偏直。

矫治该患者乳前牙反的措施中，哪项是不恰当的

A:调改可能存在的干扰 B:破除可能存在的相关口腔不良习惯 C:治疗下颌第一乳磨牙深龋 D:可用上颌垫矫治器矫治前牙反 E:优先考虑前牵引上颌骨并同时抑制下颌骨的生长

在社区中进行流行病学随访调查时，由于研究对象搬迁而造成偏倚

这类偏倚为

A:选择偏倚 B:信息偏倚 C:混杂偏倚 D:回忆偏倚 E:失访偏倚

X线胶片特性曲线是描绘曝光量与所产生的密度之间关系的一条曲线，由于这条曲线可以表示出感光材料的感光特性，所以称之为"特性曲线"。特性曲线的横坐标为曝光量，以对数值lgE表示；纵坐标为密度，以D表示。特性曲线由足部、直线部、肩部和反转部组成。足部密度的上升与曝光量不成正比，曝光量增加逐渐很多，密度只有较小的增加。直线部密度与曝光量的增加成正比，密度差保持一定，此时曲线沿一定的斜率直线上升。肩部密度随曝光量的增加而增加，但不成正比。反转部随曝光量的增加密度反而下降，影像密度呈现逆转。特性曲线可提供感光材料的本底灰雾(Dmin)、感光度(S)、对比度（γ）、最大密度(Dmax)、宽容度(L)等参数，以表示感光材料的感光性能。

关于胶片特性曲线的说法，错误的是

A:表示密度值与曝光量之间的关系 B:横轴表示曝光量对数值，纵轴表示密度值 C:能够表达出感光材料的感光特性 D:横轴表示密度值，纵轴表示曝光量 E:可称为H-D曲线

X线胶片特性曲线是描绘曝光量与所产生的密度之间关系的一条曲线，由于这条曲线可以表示出感光材料的感光特性，所以称之为"特性曲线"。特性曲线的横坐标为曝光量，以对数值lgE表示；纵坐标为密度，以D表示。特性曲线由足部、直线部、肩部和反转部组成。特性曲线可提供感光材料的本底灰雾（D）、感光度(S)、对比度（γ）、最大密度(D)、宽容度(L)等参数，以表示感光材料的感光性能。

关于胶片特性曲线的说法，错误的是

A:表示密度值与曝光量之间的关系 B:横轴表示曝光量对数值，纵轴表示密度值 C:能够表达出感光材料的感光特性 D:横轴表示密度值，纵轴表示曝光量 E:可称为H-D曲线

某患儿，男，5岁，因前牙反而求治，病史不详。乳牙列，下颌第一磨牙深龋，乳前牙反，反覆盖较大，反覆较浅，面型偏直。

矫治该患者乳前牙反的措施中，哪项是不恰当的

A:调改可能存在的干扰 B:破除可能存在的相关口腔不良习惯 C:治疗下颌第一乳磨牙深龋 D:可用上颌垫矫治器矫治前牙反 E:优先考虑前牵引上颌骨并同时抑制下颌骨的生长

晶体管处于截止状态时，集电结和发射结的偏置情况为（）。

A:发射结反偏，集电结正偏 B:发射结、集电结均反偏 C:发射结、集电结均正偏 D:发射结正偏，集电结反偏

光的偏振特性是指（）

A:光在向前传播的时候会偏离原来的方向 B:传播方向互相垂直的两束光会互相影响，甚至消失 C:光的电场振动方向在垂直传播方向的平面内有一个特殊的取向 D:光的电场振动方向在垂直传播方向的平面内是均匀的，没有特殊取向

带电流截止负反馈的转速负反馈直流调速系统的静特性具有（）等特点。

A:电流截止负反馈起作用时，静特性为很陡的下垂特性 B:电流截止负反馈起作用时，静特性很硬 C:电流截止负反馈不起作用时，静特性很硬 D:电流截止负反馈不起作用时，静特性为很陡的下垂特性 E:不管电流截止负反馈是否起作用，静特性都很硬