按结构

A:一般杂质，特殊杂质 B:无机杂质，有机杂质 C:生产中杂质，贮藏中杂质 D:普通杂质，有害杂质 E:生物杂质,化学杂质杂质

按是否有害

A:一般杂质，特殊杂质 B:无机杂质，有机杂质 C:生产中杂质，贮藏中杂质 D:普通杂质，有害杂质 E:生物杂质,化学杂质杂质

按来源

A:一般杂质，特殊杂质 B:无机杂质，有机杂质 C:生产中杂质，贮藏中杂质 D:普通杂质，有害杂质 E:生物杂质,化学杂质杂质

按结构分

A:一般杂质，特殊杂质 B:无机杂质，有机杂质 C:生产中杂质，贮藏杂质 D:信号杂质，害性杂质 E:生物杂质，化学杂质杂质

按性质分

A:一般杂质，特殊杂质 B:无机杂质，有机杂质 C:生产中杂质，贮藏杂质 D:信号杂质，害性杂质 E:生物杂质，化学杂质杂质

按来源分

A:一般杂质，特殊杂质 B:无机杂质，有机杂质 C:生产中杂质，贮藏杂质 D:信号杂质，害性杂质 E:生物杂质，化学杂质杂质

真空烤瓷炉对其温度参数和时间参数进行精密的控制。在使用中要求操作人员按严格的程序进行操作

在烤瓷过程中有一道工艺叫上釉，上釉有两种方法：自行上釉和分别上釉，其中自行上釉要求把烧好的瓷体在高于体瓷烧熔温度下保持数分钟，高于体瓷烧熔温度的范围是

A:31～40℃ B:21～30℃ C:10℃以内 D:11～20℃ E:5℃

某女性患者，59岁，全牙列缺失，按常规进行全口义齿修复，全口牙列排完后需在口内试戴，除要求有良好的咬合关系和平衡外，对义齿基托蜡型也有严格要求

对基托磨光面的外形不要求

A:固位形 B:后堤形状 C:牙龈外形 D:牙根外形 E:腭皱外形

某女性患者，59岁，全牙列缺失，按常规进行全口义齿修复，全口牙列排完后需在口内试戴，除要求有良好的咬合关系和平衡外，对义齿基托蜡型也有严格要求

对全口义齿基托组织面的要求哪一项是不正确的

A:与主承托区黏膜密合 B:与副承托区黏膜贴合 C:边缘封闭区对组织稍许压力 D:缓冲区相应的组织面应作缓冲 E:组织面粗磨、细磨后抛光

面试的时候听到面试官的提问，需要（）

A:毫无犹豫地回答 B:稍化思考再回答 C:直接指出简历内容 D:请面试官再做更详细解释