分配系数是在一定温度压力下,组分在固定相和流动相之间分配达到平衡时的浓度比值,它是分配色谱的重要参数。

会引起分配系数改变的参数改变是

A:柱长缩短 B:固定相改变 C:流动相流速增加 D:相比减少 E:流动相流速减小

流式细胞术实现了从分子和单细胞水平上获取多种信号对细胞进行定量分析或纯化分选。其基本分析参数主要包括各种荧光素,前向散射光,侧向散射光,单参数直方图和多参数散点图等。

双参数散点图的理解中错误的是

A:该图的横,纵坐标多采用线性 B:该图是一种细胞数与双测量参数的图形 C:纵坐标与横坐标分别代表被测细胞的两个测定参数 D:最常用点密图显示,将双信号参数叠加 E:该图的横,纵坐标多采用对数

流式细胞术实现了从分子和单细胞水平上获取多种信号对细胞进行定量分析或纯化分选。其基本分析参数主要包括各种荧光素,前向散射光,侧向散射光,单参数直方图和多参数散点图等。

单参数直方图是

A:能显示两个独立的参数与细胞的关系 B:通过十字门进行测定 C:只能表明一个参数与细胞数量的关系 D:只能用于定性资料的分析 E:不仅用于结果分析,还可用于进行荧光补偿

真空烤瓷炉对其温度参数和时间参数进行精密的控制。在使用中要求操作人员按严格的程序进行操作

真空烤瓷炉的温度参数和时间参数主要包括

A:预热温度,烤瓷温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间 B:预热温度,烤瓷温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间 C:现时温度,烤瓷温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间 D:现时温度,最终温度,预热时间,升温时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间 E:现时温度,最终温度,预热时间,烤瓷时间,最终温度持续时间,真空烤瓷时间

参数可分为()

A:确定参数、设计参数、状态参数 B:设计参数、状态参数和性能参数 C:确定参数、设计参数状态参数和性能参数 D:确定参数、状态参数和性能参数

下列参数中,()与无线参数无关。

A:网络识别参数 B:小区重选参数 C:网络功能参数 D:系统控制参数 E:MTP层参数

化工过程参数有()。

A:技术参数、经济参数、工艺参数 B:技术参数、平衡常数、速率常数 C:技术参数、经济参数、物性参数 D:平衡常数、速率常数、物性参数

流水参数有( )。

A:流水段数 B:工艺参数 C:空间参数 D:质量参数 E:时间参数

流水作业参数有()

A:空间参数 B:工艺参数 C:时间参数 D:分段参数

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