基底细胞上皮瘤有以下特点（）。

A:生长缓慢，分化较好，无局部破坏性，很少转移 B:生长缓慢，分化较好，有局部破坏性，很少转移 C:外生性生长，分化较差，无局部破坏性，很少转移 D:外生性生长，分化较差，有局部破坏性，常发生转移 E:生长迅速，分化较好，局部破坏性大，常发生转移

基底细胞上皮瘤的特点是，错误的是（　）

A:生长缓慢，无局部破坏性，很少转移 B:生长缓慢，有局部破坏性，很少转移 C:外生性生长，无局部破坏性，很少转移 D:外生性生长，有局部破坏性，常发生转移

基底细胞上皮瘤特点的描述，错误的是（）

A:生长缓慢，无局部破坏性，很少转移 B:生长缓慢，有局部破坏性，很少转移 C:外生性生长，无局部破坏性，很少转移 D:外生性生长，有局部破坏性，常发生转移

设备局部放电试验是破坏性试验。

局部放电试验是非破坏性试验。

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基底细胞上皮瘤有以下特点（）。

A:生长缓慢，分化较好，无局部破坏性，很少转移 B:生长缓慢，分化较好，有局部破坏性，很少转移 C:外生性生长，分化较差，无局部破坏性，很少转移 D:外生性生长，分化较差，有局部破坏性，常发生转移 E:生长迅速，分化较好，局部破坏性大，常发生转移

基底细胞上皮瘤的特点，错误的是（）。

A:生长缓慢，无局部破坏性，很少转移 B:生长缓慢，有局部破坏性，很少转移 C:外生性生长，无局部破坏性，很少转移 D:外生性生长，有局部破坏性，常发生转移